STARK आपूर्तिकर्ता कस्टम Ultrafiltration जल उपचार उपकरण 30T UF सिस्टम

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STARK आपूर्तिकर्ता कस्टम Ultrafiltration जल उपचार उपकरण 30T UF सिस्टम

Ultrafiltration उपकरण वजन: 500 किलो आकार: 300 * 120 * 165 सेमी पावर: 220/380V/415V गारंटी:1 साल उत्पादकता:30000L/Hour नाम:यूएफ झिल्ली प्रणाली प्रकार: शुद्ध जल उपचार प्रणाली समारोह: ताजे पानी का उत्पादन फ़िल्टर मीडिया: रेत + कार्बन + राल (सभी शामिल)
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उत्पाद विवरण:
जैसे-जैसे दुनिया के विभिन्न हिस्सों में जल प्रबंधन की आवश्यकताएं बढ़ रही हैं, औद्योगिक कार्यों में इस कीमती संसाधन के प्रबंधन की मांग भी बढ़ रही है। इसमें विभिन्न गतिविधियों को शामिल किया गया है, जिसमें पूरे औद्योगिक क्षेत्र में जल संसाधनों के सभी उपयोगों की बेहतर समझ और उचित जल संरक्षण शामिल है; एकल या एकीकृत अपशिष्ट जल धाराओं से निपटने के लिए अभिनव तरीके खोजना; और पानी और ऊर्जा उपयोग कुशल में सुधार के लिए जल संसाधनों का पुन: उपयोग और पुनर्चक्रण।

Ultrafiltration जल उपचार उपकरण दबाव से प्रेरित एक प्रक्रिया है। झिल्ली की सतह पर माइक्रोपोर स्क्रीनिंग के माध्यम से, 0.002-0.1um के व्यास वाले कणों और अशुद्धियों को इंटरसेप्ट किया जा सकता है, जबकि सीएच पानी में कोलाइड, सिलिकॉन, प्रोटीन और माइक्रोऑर्गेनिस-एमएस को प्रभावी ढंग से हटा सकता है। और कार्बनिक पदार्थ। जब द्रव मिश्रण झिल्ली की सतह से होकर एक निश्चित दाब में प्रवाहित होता है तो विलायक तथा छोटे आण्विक पदार्थ झिल्ली में प्रवेश करते हैं तथा फँस जाते हैं जिससे आकार तथा अंतरआण्विक पृथक्करण तथा शुद्धिकरण प्राप्त होता है। इसका व्यापक रूप से पदार्थों के पृथक्करण, एकाग्रता और शुद्धिकरण में उपयोग किया जा सकता है। इस प्रक्रिया में कोई चरण परिवर्तन नहीं है, कोई ताप नहीं है, सामान्य तापमान संचालन, ऊर्जा की बचत है, और विशेष रूप से गर्मी के प्रति संवेदनशील पदार्थों के पृथक्करण के लिए सुई तालिका है। अल्ट्राफिल्ट्रेशन प्रक्रिया सरल है, कुछ सहायक उपकरणों, सरल संचालन और कम रखरखाव लागत के साथ। रासायनिक क्षरण के लिए प्रतिरोधी, पीएच एडा-पीटीबिलिटी की विस्तृत श्रृंखला, प्रति यूनिट मात्रा में सबसे बड़ा झिल्ली क्षेत्र, सबसे कम निवेश सी-ओस्ट, सरल सफाई।


यूएफ अपशिष्ट जल उपचार संयंत्र की विशेषता:
न्यूनतम पंपिंग ऊर्जा की आवश्यकता होती है, इस प्रकार ऊर्जा की बचत होती है
रासायनिक प्रतिरोध, विस्तृत PH रेंज
पीठ धोने योग्य
संचालित करने और रखरखाव में आसान
कम निवेश लागत
रासायनिक प्रतिक्रिया के कारण कोई संदूषक अवशेष नहीं
रिकवरी रेशियो 98% तक


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